Благодаря высокой интенсивности автоэмиссионного источника, электронная колонна SXFiveFE от CAMECA позволяет создавать такие условия эксперимента, где сочетаются низкое ускоряющее напряжение и высокий ток пучка. В подобных оптимизированных условиях объем взаимодействия между электронами и образцом уменьшается, в результате чего можно получить высокое пространственное разрешение.
В данном исследовании взаимной диффузии при выделении тепла между припоем на основе никеля и подложкой из суперсплава использовалось низкое ускоряющее напряжение (5 кэВ).
Рентгеновские карты, полученные по Ni, Mo и B (ниже) иллюстрируют уникальную способность SXFiveFE сочетать низкое напряжение пучка для оптимизации пространственного разрешения с высокочувствительными кристаллами для оптимизации детектирования рентгеновского излучения.
При таких оптимизированных условиях карта B Ka слева демонстрирует высокую детализацию при разрешении по плоскости в диапазоне 300 нм. Достижение столь высокого разрешения по легким элементам является крайне сложной задачей.
Образец любезно предоставлен К. Паскаль (C. Pascal), Р. М. Марин Айрал (R.M. Marin-Ayral), Дж. К. Теденак (J.C. Tédenac), К. Мерлет (C. Merlet). Журнал «Material Science and Engineering A». Вып. 341, Изд. 1-2, стр. 144-151